(ionimplantáció). Ionok bejuttatása félvezetőkbe, ionbombázás segítségével. Az ionok adalékanyag atomok (szilícium esetén bór-, ill. foszforatomok), melyek a beépülés következtében a kristály jól meghatározható részein n-, ill. p-típusú részeket hoznak létre. Így készíthetők diódák, tranzisztorok stb. Az ionbeültetés előnye a hagyományos tranzisztortechnológiai eljárásokkal (ötvözés, diffúzió) szemben, hogy igen kis méretek, és igen kis mélységekbe bevitt adalékolások érhetők el, a hagyományostól eltérő eloszlással. Hátránya a nehézkes, bonyolult technológia, ezért jelenleg inkább még csak laboratóriumi körülmények között alkalmazzák.
Lásd még:
